末益 崇 / Suemasu, Takashi

数理物質系 教授 / Professor, Faculty of Pure and Applied Sciences

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電流による磁壁の超高速移動を室温かつレアアースフリーの磁性体で達成
第50回(2021年春季)応用物理学会講演奨励賞
第9回筑波大学オープンファシリティー研究機器共同利用説明会(2021.6.3)
Large Current Driven Domain Wall Mobility and Gate Tuning of Coercivity in Ferrimagnetic Mn4N Thin Films
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最先端量子ビームを駆使して マテリアルス・サイエンスを切り開く
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論文 / Publication

  1. Four-step heating process for solid-phase crystallization of Ge leading to high carrier mobility Mizoguchi, Takuto, Imajo, Toshifumi, Suemasu, Takashi, Toko, Kaoru APPLIED PHYSICS EXPRESS 13 (10) (2020)
  2. Multilayer Graphene Battery Anodes on Plastic Sheets for Flexible Electronics Murata, Hiromasa, Nakajima, Yoshiki, Kado, Yuya, Saitoh, Noriyuki, Yoshizawa, Noriko, Suemasu, Takashi, Toko, Kaoru ACS APPLIED ENERGY MATERIALS 3 (9) 8410 - 8414 (2020)
  3. Metal-induced layer exchange of group IV materials Toko, Kaoru, Suemasu, Takashi JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 53 (37) (2020)
  4. Magnetic compensation at two different composition ratios in rare-earth-free Mn4-xCoxN ferrimagnetic films Mitarai, Haruka, Komori, Taro, Hirose, Taku, Ito, Keita, Ghosh, Sambit, Honda, Syuta, 都甲薫, Vila, Laurent, Attané, Jean-Philippe, Amemiya, Kenta, Suemasu, Takashi PHYSICAL REVIEW MATERIALS 4 (9) 094401-1 - 094401-7 (2020)
  5. Influence of grain boundaries on the properties of polycrystalline germanium Imajo, T, Suemasu, T, Toko, K JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 128 (7) (2020)
  6. Fabrication of high-photoresponsivity BaSi2 films formed on conductive layers by radio-frequency sputtering Koitabashi, Ryota, Nemoto, Taira, Mesuda, Masami, Toko, Kaoru, Suemasu, Takashi Applied Physics Express 13 (7) 075506 (2020)
  7. Fabrication of high-photoresponsivity BaSi2 films formed on conductive layers by radio-frequency sputtering Koitabashi, Ryota, Nemoto, Taira, Mesuda, Masami, Toko, Kaoru, Suemasu, Takashi Applied Physics Express 13 (7) 075506 (2020)
  8. Hydrogen states in hydrogen-passivated semiconducting barium disilicide measured via muon spin rotation Xu, Zhihao, Sato, Takuma, Nakamura, Jumpei, Koda, Akihiro, Shimomura, Koichiro, Filonov, Andrew B, Migas, Dmitry B, Suemasu, Takashi Japanese Journal of Applied Physics 59 (7) 071004 (2020)
  9. Atomic hydrogen passivation for photoresponsivity enhancement of boron-doped p-BaSi2 films and performance improvement of boron-doped p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells Xu, Zhihao, Sato, Takuma, Benincasa, Louise, Yamashita, Yudai, Deng, Tianguo, Gotoh, Kazuhiro, Toko, Kaoru, Usami, Noritaka, Filonov, Andrew B, Migas, Dmitri B, Shohonov, Denis A, Suemasu, Takashi Journal of Applied Physics 127 (23) 233104 (2020)
  10. Impact of the carbon membrane inserted below Ni in the layer exchange of multilayer graphene Murata, H, Saitoh, N, Yoshizawa, N, Suemasu, T, Toko, K CRYSTENGCOMM 22 (18) 3106 - 3109 (2020)

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知財 / Intellectual properties

  1. 2020-010274 : 半導体装置とその製造方法および熱電変換装置とその製造方法 都甲, 薫, 末益, 崇
  2. 特願2012-205508 : 金属ケイ化物形成方法 関口隆史, 山根久典, 末益崇
  3. 特願2011-513338 : 半導体装置およびその製造方法並びに太陽電池 Suemasu,Takashi, Usami,Noritaka
  4. 特願2009-185666 : 太陽電池およびその製造方法並びにBaSi層の成膜方法 末益崇, 宇佐美徳隆
  5. 特願2009-115337 : 太陽電池およびその製造方法並びにBaSi層の成膜方法 末益, 崇
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発行:筑波大学 URA研究戦略推進室・研究推進部